光學結構

帕邢-龍格結構的全譜真空型光學系統(tǒng)

光室溫度

自動控制恒溫：34℃±0.5℃

波長范圍

130-800nm

光柵焦距

400 mm

光柵刻線

3600 l/mm

一級光譜線色散率

1.2 nm/mm

探測器

多塊高性能線陣CCD

平均分辨率

10pm/pixel

激發(fā)臺

氣   體

沖氬式

氬氣流量

激發(fā)時6L/min，待機時:無須待機流量  

氬氣濃度

必須是有合格證的高純氬(≥99.999%)

電  極

鎢材噴射電極技術

吹  掃

點擊自吹掃功能

補  償

熱變形自補償設計

分析間隙

樣品臺分析間隙：4mm

激發(fā)光源

類  型

全數(shù)字式火花激發(fā)光源（參數(shù)可任意設置）

頻   率

100-1000Hz

放電電流

1-80A

特殊技術

放電參數(shù)優(yōu)化設計

預燃

高能預燃技術

數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)

處理器

ARM處理器，高速數(shù)據(jù)同步采集處理

接 口

基于DM9000A的以太數(shù)據(jù)傳輸

電源與環(huán)境要求

輸  入

220V/AC  50Hz  10A

功  率

分析時最大700W，待機狀態(tài)40W

工作溫度

10-30℃（該溫度范圍內溫度變化不大于5℃/h）

工作濕度

20-80%